光電光學玻璃行業(yè)的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水,鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設備設計上,采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO+EDI+SMB除鹽水處理工藝,確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用國際主流先進可靠產品,采用PLC+觸摸屏控制,全套系統自動化程度高,系統穩(wěn)定性高。
研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量(外觀和精度)的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青,少數企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異,一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據鏡片的材質及研磨精度不同,選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的,以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。玻璃研磨過后,需要用超純水進行產品的清洗,以獲得高品質的產品。
典型光學玻璃清洗超純水設備制備工藝:
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)